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J-GLOBAL ID：200903063903180134
基板付薄膜積層デバイスおよびその製法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
友松 英爾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991189336
Publication number (International publication number)：1993005871
Application date： Jul. 03, 1991
Publication date： Jan. 14, 1993
Summary：
【要約】【目的】 基板から薄膜積層デバイスに不純物が移行するのを防ぐために設ける層により発生するカールを防止する。【構成】 基板の両面に同時に無機物質からなる薄膜を形成してなる基板付薄膜積層デバイス。
Claim (excerpt)：
プラスチック基板と該基板上に形成された薄膜積層デバイスにおいて、該基板の一方の面に無機物質からなる薄膜の第1無機材料層を、他方の面に無機物質からなる薄膜の第2無機材料層を有することを特徴とする基板付薄膜積層デバイス。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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