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J-GLOBAL ID：200903063906303792
金属被膜の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002326252
Publication number (International publication number)：2004164876
Application date： Nov. 11, 2002
Publication date： Jun. 10, 2004
Summary：
【課題】低温焼成によって、導電性が高く、かつ密着性の高い被膜の形成が可能な金属被膜形成方法の提供。【解決手段】有機分散媒に、粒子径が200nm以下の還元可能な金属酸化物を分散させた分散体を基板に塗布した後、非酸化性雰囲気中で焼成したのち、還元性雰囲気中において焼成することを特徴とする金属被膜形成方法。【選択図】 選択図なし。
Claim (excerpt)：
有機分散媒に、粒子径が200nm以下の還元可能な金属酸化物を分散させた分散体を基板に塗布した後、不活性性雰囲気中で焼成したのち、還元性雰囲気中において焼成することを特徴とする金属被膜の製造方法。
IPC (1)：
FI (1)：
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