Pat
J-GLOBAL ID:200903063908198333

微小変位量の測定方法及び装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石橋 佳之夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996008473
Publication number (International publication number):1997196619
Application date: Jan. 22, 1996
Publication date: Jul. 31, 1997
Summary:
【要約】【課題】 被検物の変位量と傾き量のどちらも計測することが可能であり、温度変動の影響を受けにくく、さらには、高分解能化が可能な微小変位量の測定方法及び装置を得る。【解決手段】 レーザ光源を用い、光路を分割して、被検物と、基準となる参照面とにレーザ光を照射し、その被検光と参照光とを重畳させる手段を有し、上記被検光と参照光の光路長が略一致している干渉計を用い、位相差がπ/2異なる干渉縞強度を検出する手段を有する。
Claim (excerpt):
レーザ光源を用い、光路を分割して、被検物と、基準となる参照面とにレーザ光を照射し、その被検光と参照光とを重畳させる手段を有し、上記被検光と参照光の光路長が略一致している干渉計を用い、位相差がπ/2異なる干渉縞強度を検出する手段を有することを特徴とする微小変位量の測定方法。
IPC (2):
G01B 11/00 ,  G01B 9/02
FI (2):
G01B 11/00 G ,  G01B 9/02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平3-255902
  • 特公平5-062922
  • 特開平3-255902
Show all

Return to Previous Page