光近接補正装置及び方法並びにパタン形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：曾我道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995204837
Publication number (International publication number)：1996297692
Application date： Aug. 10, 1995
Publication date： Nov. 12, 1996
Summary：

【要約】【課題】この発明は、集積回路の製造プロセスにおいて光近接効果の影響によるパタンの変形を軽減することを目的とする。【解決手段】回路パタンの設計データが圧縮され(ステップS1)、設計データに基づいてウエハ転写の際の投影像が形成され(ステップS2)、この投影像から転写パタンの寸法が予測され(ステップS3)、予測された転写パタンの寸法と設計データによるパタンの寸法との差分が算出されて(ステップS4)この差分を補正量として圧縮された設計データが補正され(ステップS5)、補正量が許容範囲内である場合(ステップS6)に補正データが展開された(ステップS7)後、出力される(ステップS8)。

Claim (excerpt)：

回路パタンの設計データを取り入れるための設計データ入力部と、前記設計データ入力部に入力された設計データを圧縮するデータ圧縮部と、前記設計データ入力部に入力された設計データに基づいてウエハ転写の際の光学的投影像を形成する光学像形成部と、前記光学像形成部で形成された投影像からウエハに転写されるパタンの寸法を予測する予測部と、前記予測部で予測された転写パタンの寸法と前記設計データ入力部に入力された設計データによるパタンの寸法との差分を算出する比較部と、前記比較部で算出された差分を補正量として前記データ圧縮部で圧縮された設計データを補正する補正部と、前記補正部で補正されたデータを展開するデータ展開部と、前記データ展開部で展開されたデータを出力する補正データ出力部とを備えたことを特徴とする光近接補正装置。

IPC (2)：

G06F 17/50 , H01L 21/82

FI (3)：

G06F 15/60 658 M , G06F 15/60 658 R , H01L 21/82 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

図形演算処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-253636 Applicant：三菱電機株式会社
特開昭64-019470

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