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J-GLOBAL ID：200903063995129288

微小構造体の製造方法

Inventor：
高橋 睦也

About 高橋 睦也

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山田 高幸

About 山田 高幸

, 
永田 真生

About 永田 真生


Applicant, Patent owner：
富士ゼロックス株式会社

About 富士ゼロックス株式会社


Agent (1)： 平田 忠雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997223703
Publication number (International publication number)：1999061436
Application date： Aug. 20, 1997
Publication date： Mar. 05, 1999
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 歩留りの向上を図りながら強度および精度が高い微小構造体の製造方法を提供する。【解決手段】 基板400上に所定の2次元パターンを有する複数の第1の薄膜4Aを形成し、その上に、それとは異なる材質で、それを被覆する厚さが均一な被覆層403を形成し、被覆層403を気体エッチングで薄膜化し、発生するガスの成分の変化に基づいて気体エッチングを停止することにより複数の第1の薄膜4Aと同じ膜厚の第2の薄膜403Aを形成し、それに溝405を形成して複数の第1の薄膜4Aを分離した後、第1の薄膜4Aおよび第2の薄膜403Aよりなる複合薄膜4Bを順次積層するようにした、微小構造体の製造方法。
Claim (excerpt)：
基板上に所定の第1の2次元パターンを有する複数の第1の薄膜を形成し、前記基板上に前記複数の第1の薄膜とは異なる材質からなり、かつ、前記複数の第1の薄膜を被覆する厚さの均一な被覆層を形成し、前記被覆層をドライエッチング法によりエッチバックすることにより前記複数の第1の薄膜と同じ膜厚の第2の薄膜を形成して、複合薄膜を形成し、前記複合薄膜を所定の第2の2次元パターンに分離する溝を形成して、複数の複合薄膜パターンを形成し、前記複数の複合薄膜パターンを前記基板上から順々に剥離してステージ上に重ねて転写することにより、前記ステージ上に前記複数の複合薄膜パターンを積層して接合させた微小構造体を含む積層体を形成し、前記積層体のうち前記第1の薄膜あるいは前記第2の薄膜を選択的に除去して前記微小構造体を得ることを特徴とする微小構造体の製造方法。
IPC (5)：
C23C 28/00 ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/10 ,  B29C 67/00 ,  C23F 4/00
FI (5)：
C23C 28/00 A ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/10 ,  B29C 67/00 ,  C23F 4/00 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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