レーザー光発生装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：逢坂宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998031429
Publication number (International publication number)：1999233859
Application date： Feb. 13, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】安定性かつ信頼性の高いレーザー光発生装置を提供すること。【解決手段】半導体レーザーからなる励起光源4及び5と、レーザー光20を発生するレーザー媒質2とを有するレーザー光発生装置において、励起光源4とレーザー媒質2とを同一の基体1上に配置し、かつ、励起光源4及び5とレーザー媒質2とを熱的に分離状態とする。または、励起光源4及び5と、ウエッジ型導波路9及び10と、レーザー光20を発生するレーザー媒質2とを有するレーザー光発生装置において、励起光源2とウエッジ型導波路9及び10とレーザー媒質2とを同一の基体上に配置する。

Claim (excerpt)：

励起光を出射する励起光源と、この励起光によって励起され、レーザー光を発生するレーザー媒質とを有するレーザー光発生装置において、前記励起光源と前記レーザー媒質とが一体の基体上に配されており、かつ、前記励起光源と前記レーザー媒質とが熱的に分離状態とされていることを特徴とする、レーザー光発生装置。

IPC (2)：

H01S 3/094 , H01S 3/04

FI (2)：

H01S 3/094 S , H01S 3/04 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

半導体レーザ励起固体レーザ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-227386 Applicant：ホーヤ株式会社
半導体レーザ励起固体レーザ装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-220970 Applicant：日本コロムビア株式会社
ブリック型半導体励起固体レーザー装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-324259 Applicant：日本原子力研究所, 松尾産業株式会社

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