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J-GLOBAL ID：200903064003475569

光記録方式

Inventor： 桐野 文良 ,  釘屋 文雄
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立マクセル株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991340648
Publication number (International publication number)：1993174381
Application date： Dec. 24, 1991
Publication date： Jul. 13, 1993
Summary：

【要約】【目的】記録層における光吸収率の差を利用し膜厚方向に複数の情報記録層を設けることにより、超高密度記録の方式を提供する。【構成】複数の記録層に波長の異なるレーザ光を照射し、各記録層において光が多重干渉することを利用して記録,消去及び再生を行う。光記録部材は、希土類元素と鉄族元素との合金や、貴金属元素と鉄族元素との交互積層多層膜,金属カルコゲナイドなどがある。【効果】本発明により、記録密度の飛躍的向上を図ることができる。

Claim (excerpt)：

光を用いて記録,再生或いは消去を行う光記録において、光の吸収波長が異なる記録層を複数層積層した記録媒体を使用し、各々の層に異なる情報を記録、或いは多値の記録を行ったことを特徴とする光記録方式。

IPC (2)：

G11B 7/00 ,  G11B 7/24 521