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J-GLOBAL ID：200903064009357568

耐腐食性静電チャック

Inventor： シャモイル シャモイリアン ,  マヌーチャー ビラング ,  セミョン シャースティンスキー ,  サッソン ソメクー
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995033877
Publication number (International publication number)：1996055903
Application date： Feb. 22, 1995
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ペデスタル端部を越えて延びた静電積層ストラップ領域を除去することにより、プラズマに晒される静電積層領域を減少すること。【構成】 静電チャックは、半導体基板(8)を処理チャンバ内の所定位置に固定するために設けられる。無反応性ガスはペデスタルを通じてチャックの誘電部分の端部近傍領域に接続され(ported)、誘電部分の端部を処理領域により生じる腐食から保護する。

Claim (excerpt)：

電極と、前記電極上に配置され、その上に基板を受容し、かつ、処理チャンバに露出する露出部分を有する第1電気絶縁体と、前記露出部分にマスクガスを供給するマスクガス手段と、を備える静電チャック。

IPC (5)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  B23Q 3/15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 静電チャック及びこの静電チャックを備えたプラズマ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-204801   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 株式会社東芝
• 特開平4-010528
  
• 気相成長装置及び装置内のクリーニング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-223906   Applicant：株式会社東芝