Pat

J-GLOBAL ID：200903064010927459

研磨用組成物の製造方法

Inventor： 玉井 一誠 ,  伊奈 克芳
Applicant, Patent owner： 株式会社フジミインコーポレーテッド
Agent (1)： 佐々木 宗治 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999202181
Publication number (International publication number)：2001026771
Application date： Jul. 15, 1999
Publication date： Jan. 30, 2001
Summary：

【要約】【課題】 長期間に亘って砥粒であるフュームドシリカの分散性が良好で、かつ優れた研磨性能を有する研磨用組成物の製造方法を提供する。【解決手段】 予めpHを2〜4に調整した水中に、高剪断力を与えつつ、フュームドシリカの濃度が40〜60wt%になるまで添加・混合し、次いで水を加えて粘度が2〜10000cpsの範囲内になるように調整し、これを低剪断状態で少なくとも5分間撹拌し、フュームドシリカの濃度が10〜38wt%になるまで水を加え、さらに強撹拌下でpHが9〜12になるまで塩基性物質を加える製造方法である。

Claim (excerpt)：

予めpHを2〜4に調整した水中に、高剪断力を与えつつ、濃度が40〜60wt%になるまでフュームドシリカを添加・混合し、次いで水を加えて粘度が2〜10000cpsになるように調整し、これを低剪断状態で少なくとも5分間撹拌し、フュームドシリカの濃度が10〜38wt%になるまで水を加え、さらに強撹拌下でpHが9〜12になるまで塩基性物質を加えることを特徴とする研磨用組成物の製造方法。

IPC (6)：

C09K 3/14 550 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  C01B 33/18 ,  H01L 21/304 622 ,  H01L 21/306

FI (6)：

C09K 3/14 550 D ,  C09K 3/14 550 Z ,  B24B 37/00 H ,  C01B 33/18 ,  H01L 21/304 622 D ,  H01L 21/306 M

F-Term (26)：

3C058AA07 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  4G072AA28 ,  4G072AA38 ,  4G072CC18 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH17 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ21 ,  4G072LL06 ,  4G072MM02 ,  4G072MM22 ,  4G072PP17 ,  4G072TT01 ,  4G072TT05 ,  4G072UU30 ,  5F043AA29 ,  5F043DD16 ,  5F043DD30 ,  5F043FF07 ,  5F043GG10