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J-GLOBAL ID:200903064015398730
短光パルス波形整形装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大塚 学
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996044074
Publication number (International publication number):1997043646
Application date: Feb. 07, 1996
Publication date: Feb. 14, 1997
Summary:
【要約】【課題】光パルス幅がキャリア寿命時間以下のピコ秒程度に短い光信号パルス列の雑音除去や波形整形を効果的に行うことができる短光パルス波形整形装置を提供する。【解決手段】可飽和吸収素子と、短光パルスよりなる入力信号パルス光を該可飽和吸収素子に入射させる手段と、該入力信号パルス光によって該可飽和吸収素子内に生成された励起状態にある電子の消滅を誘導放出により促進させるために該入力信号パルス光の波長より長い波長の第2の光を該可飽和吸収素子に入射させる手段と、該可飽和吸収素子から波形整形された該入力信号パルス光を取り出す手段とを備えた構成を有している。
Claim (excerpt):
可飽和吸収素子と、短光パルスよりなる入力信号パルス光を該可飽和吸収素子に入射させる手段と、該入力信号パルス光によって該可飽和吸収素子内に生成された励起状態にある電子の消滅を誘導放出により促進させるために該入力信号パルス光の波長より長い波長の第2の光を該可飽和吸収素子に入射させる手段と、該可飽和吸収素子から波形整形された該入力信号パルス光を取り出す手段とを備えた短光パルス波形整形装置。
IPC (4):
G02F 1/35
, H01S 3/18
, H04B 10/28
, H04B 10/02
FI (3):
G02F 1/35
, H01S 3/18
, H04B 9/00 W
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