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J-GLOBAL ID:200903064020643947
埋立て廃棄物の浸透水制御方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
村上 友一
, 大久保 操
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003429336
Publication number (International publication number):2005185927
Application date: Dec. 25, 2003
Publication date: Jul. 14, 2005
Summary:
【課題】 多層覆土による埋立て廃棄物の内部廃棄物に水分を必要に応じた量と場所に供給し、内部発生ガスを外へ排出して安定化を促進するようにする。【解決手段】 埋立て廃棄物の上表面に粗粒層18とその上層に積層した細粒層20からなる勾配を付して形成されたキャピラリーバリア層16に、下部埋立て廃棄物内に浸透遮蔽された浸透水の一部を埋立て物内に浸透させる複数の粗粒壁24および浸透孔26からなる浸透部を分散形成することにより、埋立て廃棄物への少量浸透を行いつつ、それ以外の余剰の浸透水はキャピラリーバリア層16によって下流側へ排水して埋立て廃棄物の安定化を図る。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
埋立て廃棄物保護層の上表面に粗粒層とその上層に積層した細粒層からなる勾配を付して形成されたキャピラリーバリア層に、下部埋立て廃棄物内に浸透遮蔽された浸透水の一部を埋立て物内に浸透させる複数の浸透部を分散形成することにより、埋立て廃棄物への少量浸透を必要な箇所に行い、埋立て物の安定化をなさしめることを特徴とする埋立て廃棄物の浸透水制御方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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廃棄物埋設構造および埋設工法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-190073
Applicant:財団法人原子力環境整備センター, 日本国土開発株式会社
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特許第4363079号
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廃棄物最終処分場の最終覆土工法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-191963
Applicant:株式会社鴻池組
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廃棄物処分場
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-374344
Applicant:太陽工業株式会社
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Cited by examiner (3)
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特許第4363079号
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廃棄物最終処分場の最終覆土工法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-191963
Applicant:株式会社鴻池組
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廃棄物処分場
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-374344
Applicant:太陽工業株式会社
Article cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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