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J-GLOBAL ID：200903064030867673

X線マスクの製造方法及びそれにより得られたX線マスク

Inventor： 菊池 則文 ,  山下 博明 ,  松井 安次 ,  丸本 健二 ,  矢部 秀毅
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社 ,  三菱電機株式会社
Agent (1)： 田澤 博昭 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994189677
Publication number (International publication number)：1996054726
Application date： Aug. 11, 1994
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：

【要約】【目的】 緻密で平滑性のよいX線吸収体を有するX線マスクの製造方法及びそれにより得られたX線マスクを提供する。【構成】 薄厚の基板31の平滑な面に非晶質または微結晶のいずれかからなるX線吸収体21を形成する吸収体形成工程と、X線吸収体21上にダイヤモンド膜22を成膜するダイヤモンド成膜工程と、基板31を除去する基板除去工程と、X線吸収体21に所定のパターンを形成するパターン形成工程とを備えたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

薄厚の基板の平滑な面に非晶質または微結晶のいずれかからなるX線吸収体を形成する吸収体形成工程と、該X線吸収体上にダイヤモンド膜を成膜するダイヤモンド成膜工程と、前記基板を除去する基板除去工程と、前記X線吸収体に所定のパターンを形成するパターン形成工程とを備えたことを特徴とするX線マスクの製造方法。

IPC (4)：

G03F 1/08 ,  C01B 31/06 ,  C30B 29/04 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 541 K

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平2-051216