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J-GLOBAL ID：200903064065283674

濃縮式脱臭装置における濃縮倍率の制御方法

Inventor： 小松 隆夫 ,  山内 奉身 ,  伊藤 武彦
Applicant, Patent owner： 住友金属鉱山株式会社
Agent (1)： 田中 増顕
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994330570
Publication number (International publication number)：1996155253
Application date： Dec. 07, 1994
Publication date： Jun. 18, 1996
Summary：

【要約】【目的】 吸着ゾーン、再生ゾーンおよび冷却ゾーンに分割されたハニカムロータを有する濃縮式脱臭装置において、濃縮倍率を任意に制御する制御方法並びに処理ガスの濃度変化に影響されずに一定のガス濃度に維持するように制御する制御方法を提供することにある。【構成】 吸着ゾーン、再生ゾーンおよび冷却ゾーンに分割されたハニカムロータを有する濃縮式脱臭装置における濃縮倍率の制御方法において、冷却ゾーンから加熱ヒータを通って再生ゾーンに供給される再生用加熱空気の一部を循環することにより、再生用加熱空気のガス濃度の濃縮倍率を制御する。

Claim (excerpt)：

吸着ゾーン、再生ゾーンおよび冷却ゾーンに分割されたハニカムロータを有する濃縮式脱臭装置における濃縮倍率の制御方法において、冷却ゾーンから加熱ヒータを通って再生ゾーンに供給される再生用加熱空気の一部を循環することにより、再生用加熱空気のガス濃度の濃縮倍率を制御することを特徴とする方法。

IPC (4)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/06 ,  B01D 53/34 ZAB

FI (2)：

B01D 53/34 116 A ,  B01D 53/34 ZAB

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平4-059015