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J-GLOBAL ID：200903064078081213
電位制御電解による好気性化学独立栄養細菌の培養方法および培養装置
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
萼 経夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997013132
Publication number (International publication number)：1998191965
Application date： Jan. 08, 1997
Publication date： Jul. 28, 1998
Summary：
【要約】【課題】好気性化学独立栄養細菌を非常に高い増殖速度で高濃度まで培養し得る培養系(鉄酸化細菌の場合,6日間で1×1010細胞/ml)の提供。【解決手段】好気性化学独立栄養細菌〔チオバチルス・フェロオキシダンス(Thiobacillus ferrooxidans) 等の鉄酸化細菌等〕を該菌のための電子供与体含有培地13で培養するための装置1であって、前記培地を定電位電解し、酸化された電子供与体を前記菌が利用し得る元の電子供与体に還元するための電解槽2と、前記菌に増殖するための十分量の酸素を供給する通気槽3、両槽間での培地の循環を可能にする連通路a,b,cからなり、上記両槽および連通路において前記菌の培養が行われる培養装置。その培養法。
Claim (excerpt)：
好気性化学独立栄養細菌を該細菌のための電子供与体を含有する培地中で培養する際に、該培地を定電位電解して、酸化された電子供与体を前記細菌が利用し得る元の電子供与体に還元し、かつ、前記細菌が増殖するために十分な量の酸素を培地中に供給することを特徴とする好気性化学独立栄養細菌の培養方法。
IPC (4)：
C12N 1/20
, C12M 1/42
, C12N 13/00
, C12R 1:01
C12N 1/20 A
, C12M 1/42
, C12N 13/00
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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