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J-GLOBAL ID：200903064086999831

荷電粒子ビーム照射装置および荷電粒子ビーム照射方法

Inventor： 松田 浩二 ,  秋山 浩 ,  平本 和夫
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997178048
Publication number (International publication number)：1999019235
Application date： Jul. 03, 1997
Publication date： Jan. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】荷電粒子ビームのエネルギー分布を変更でき、均一な線量率分布の荷電粒子ビームを照射対象に照射することができる荷電粒子ビーム照射装置および荷電粒子ビーム照射方法を提供する。【解決手段】荷電粒子ビーム照射装置100は、照射野拡大装置1,リッジフィルタ2,レンジシフタ3,コリメータ4、および、ボーラス5を構成機器として有し、リッジフィルタ2は、支持板11上に多数並べられたくさび形構造物10とくさび形構造物10の山30を覆う遮蔽物7をもつ。

Claim (excerpt)：

荷電粒子ビームのビーム進行方向のエネルギー分布を拡大するリッジフィルタを備え、前記リッジフィルタを通過した前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する荷電粒子ビーム照射装置において、前記リッジフィルタは、前記ビーム進行方向に平行な断面がくさび形で、入射された前記荷電粒子ビームを異なるエネルギーの複数のビーム成分を有する荷電粒子ビームにして透過させるくさび形構造物と、前記ビーム成分を変更するビーム成分変更手段とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム照射装置。

IPC (3)：

A61N 5/10 ,  G21K 1/04 ,  G21K 5/04

FI (4)：

A61N 5/10 N ,  A61N 5/10 H ,  G21K 1/04 R ,  G21K 5/04 A