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J-GLOBAL ID：200903064111344420

インクジェット式記録ヘッドの製造方法

Inventor： 邱 宏 ,  西脇 学
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 稲葉 良幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999317971
Publication number (International publication number)：2001130010
Application date： Nov. 09, 1999
Publication date： May. 15, 2001
Summary：

【要約】【課題】 圧電体素子の形成工程と、インク室の形成工程とを同時に行うことを可能とし、インクジェット式記録ヘッドの製造にかかる時間を短縮する。【解決手段】 インク室が形成される基板20と、基板の一方の面に固定される振動板31〜33と、前記振動板に備えられる圧電体素子41、42と、基板の他方の面に形成されるインク室の開口を封止するノズル板とを備えるインクジェット式記録ヘッドの製造方法において、前記インク室を形成するために、基板20の前記他方の面に保護層51をパターン形成する保護層形成工程(S3)と、前記圧電体素子41、42を形成するために、所定のアルカリ溶液中における少なくとも1回の水熱処理を実行する水熱処理工程(S4)とを備え、前記少なくとも1回の水熱処理により、基板20のうち前記保護層51以外の部分にインク室を形成する。

Claim (excerpt)：

インク室が形成される基板の一方の面に、振動板を形成する工程と、前記振動板に圧電体素子を形成するために、圧電体の前駆体薄膜層を形成する前駆体薄膜層形成工程と、前記基板に前記インク室を形成するために、前記基板の他方の面に、保護層をパターン形成する保護層形成工程と、前記振動板と、前記前駆体薄膜層と、前記保護層とを備えた前記基板に対し、所定のアルカリ水溶液中における水熱処理を実行することにより、前記前駆体薄膜層を結晶化させるとともに前記基板のうち前記保護層形成部以外の部分にインク室を形成する水熱処理工程と、前記基板の前記他方の面に形成された前記インク室の開口をノズル板で封止する工程とを備える、インクジェット式記録ヘッドの製造方法。

IPC (3)：

B41J 2/16 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055

FI (2)：

B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 A

F-Term (12)：

2C057AF93 ,  2C057AG12 ,  2C057AG44 ,  2C057AP02 ,  2C057AP11 ,  2C057AP14 ,  2C057AP32 ,  2C057AP33 ,  2C057AP57 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14