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J-GLOBAL ID：200903064129826618

フォトレジスト組成物

Inventor： 八子 由子 ,  福井 信人
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997158332
Publication number (International publication number)：1999007132
Application date： Jun. 16, 1997
Publication date： Jan. 12, 1999
Summary：

【要約】【課題】 解像度、感度、残膜率、塗布性、耐熱性、タイム・ディレイ耐性などの諸性能に優れ、特にハレーションを抑制でき、かつ良好なプロファイルを与える化学増幅型のポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)、塩基性有機化合物(C)、および下式(I)(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は互いに独立に、水素、ハロゲンで置換されてもよい炭素数1〜6のアルキル、ハロゲンまたはニトロを表す)で示されるフルオレノン系化合物(D)の各成分を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリに対して不溶性または難溶性の状態から酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂(A)、酸発生剤(B)、塩基性化合物(C)、および式(I)(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は互いに独立に、水素、ハロゲンで置換されてもよい炭素数1〜6のアルキル、ハロゲンまたはニトロを表す)で示されるフルオレノン系化合物(D)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/30 502 R