Pat
J-GLOBAL ID：200903064138139275
エキシマレーザ用のガス補充の方法と装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山川 政樹 (外5名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996508695
Publication number (International publication number)：1998505949
Application date： Aug. 31, 1994
Publication date： Jun. 09, 1998
Summary：
【要約】フッ素/クリプトン/ネオンのガス混合物を使用する本発明のエキシマガスレーザは、ガス混合物を補充する場合に使用するための個別のフッ素/ネオンのガス源(32)とクリプトン/ネオンのガス源(34)を備えている。エキシマレーザからガス混合物の一部分を除去するために、取出し機構(36)も設けられている。エキシマレーザ内のガス混合物を選択的に変更して全般的に最適のレーザ効率を維持するために、制御機構(44)がフッ素/ネオンのガス源(32)とクリプトン/ネオンのガス源(34)と取出し機構(36)の動作を制御する。制御システム(44)が、エキシマレーザ内のガス混合物が最適混合物と異なっているか否かを測定するために、利得、波長、帯域幅、およびパルス繰返数を含むエキシマレーザの動作パラメータを監視することが好ましい。制御システムは、レーザの動作パラメータの変化を補償するために個別のフッ素/ネオン源とクリプトン/ネオン源の動作を制御し、これによって高い全体的なレーザ効率を維持する。代替案として、所定の経験に基づくガス補充計略を使用してガス補充を制御する。
Claim (excerpt)：
ガスレーザのガスチャンバ内のガス混合物を変更するための方法であって、前記のガス混合物はハロゲン、第1希ガス、および第2希ガスを含み、そして望みの組成を有している方法において、 ハロゲン/第2希ガス混合物を前記のチャンバに選択的にポンプで送るステップと、 第1希ガス/第2希ガス混合物を前記のチャンバに選択的にポンプで送るステップと、 前記のチャンバの中のガス混合物の一部を選択的に放出するステップとを備えており、上記のステップの各々が、チャンバ内のガス混合物の実際の組成を望みの組成に向けて調節するのに十分な量だけ実施される方法。
IPC (2)：
FI (2)：
H01S 3/223 E
, H01S 3/03 J
