欠陥検査装置及び光学走査装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：笹島富二雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994172550
Publication number (International publication number)：1996035937
Application date： Jul. 25, 1994
Publication date： Feb. 06, 1996
Summary：

【要約】【目的】ビームウエスト位置とビームウエスト径の双方を可変できる光学系を、場合に応じて調整することで、必要とされるビーム径、レーザビームスポットの収束位置を自由に変更させることのできる、プリオブジェクティブ型やポストオブジェクティブ型のどちらにも適用できる汎用性のある欠陥検査装置、バーコードリーダ等の走査光学装置を提供することを目的とする。【構成】集光光学系10の第1の光学レンズf4 が、ウエスト位置lを可変するように光軸方向へ移動し、前記集光光学系10の第2の光学レンズf2 がビームウエスト径ω0 を可変するように移動するために、光学系の最適設計をしなおしたり検出力の低下をまねくことなく、検査対象物20に応じてビーム径を変更したり、検査工程に合わせてビームスポットの収束位置を変えることができる

Claim (excerpt)：

集光光学系を介して、検査対象物にレーザビーム光を走査する走査手段と、該走査されたレーザビーム光の散乱や偏光した反射光或いは透過光を受光する受光手段と、該受光手段の受光結果に基づいて該対象物の欠陥を検出する検出手段と、を含んで構成される欠陥検査装置において、前記集光光学系は、該系内の複数の光学レンズが光軸方向へ移動することによってウエスト位置及びビームウエスト径を可変し、該複数の光学レンズは主としてウエスト位置を可変する第1の光学レンズと、第1の光学レンズとは独立して設けられ主としてビームウエスト径を可変する第2の光学レンズと、を具備することを特徴とする欠陥検査装置。

IPC (2)：

G01N 21/89 , G02B 26/10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開平4-170543
特開昭62-043129
特開昭63-278013

Cited by examiner (3)

特開平4-170543
特開昭62-043129
特開昭63-278013

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