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J-GLOBAL ID：200903064173869693
基板上に集積したレーザー走査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
中村 稔 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991040159
Publication number (International publication number)：1994124360
Application date： Mar. 06, 1991
Publication date： May. 06, 1994
Summary：
【要約】【目的】 基板上に光源および走査要素を集積したコンパクトな構造のレーザー走査装置を提供する。【構成】 半導体または電気光学材料の基板、前記基板上の配置されたレーザー光源、前記基板上に、レーザービームの通路に配置されていて、目標物を反復して走査し、そこから反射する走査ビームを作るためにレーザービームを反復して周期的に動かす走査要素から成る。前記走査要素は、基板上の可動構造の上に配置された反射物質層である。前記反射物質層の平面は、レーザービームが光路に横たわる基準面の近くに置かれたバーコード記号へ光路に沿って導かれ、比較的長い走査線に沿って基準面の空間的隣接部分を走査するように、レーザービームに対し鋭角で配置されている。
Claim (excerpt)：
基板、前記基板上に配置されたレーザービーム発生手段、および前記基板上に、レーザービームの通路内に配置されていて、レーザービームを反復して周期的に動かすことにより走査ビームを作り、その走査ビームで目標物を反復して走査し、そこから反射させる走査手段、から成ることを特徴とするレーザー走査装置。
IPC (2)：
G06K 7/10
, G02B 26/10 104
