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J-GLOBAL ID：200903064208340690

ポジ型感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物及びこれを用いたレリーフパターンの製造法

Inventor： 岡庭 香 ,  藤枝 永敏
Applicant, Patent owner： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998139626
Publication number (International publication number)：1999338143
Application date： May. 21, 1998
Publication date： Dec. 10, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 i線露光で、感度よく、現像時間の短縮が図れ、高解像度で、厚膜においてもアルカリ水溶液現像が可能で、パターン性に優れるポジ型感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物及びi線露光で、感度よく、良好なレリーフパターンが形成できるレリーフパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (A)イミド化率が5〜60%であるポリアミド酸、(B)ナフトキノンジアジド化合物及び(C)一般式(1)(nは0〜3の整数、Xは水素原子、水酸基、等、1つの芳香族環にあるXのうち少なくとも1つは水酸基であり、Rは単結合又は2価の脂肪族基である)で示されるフェノール性水酸基を有する化合物を含有してなるポジ型感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物並びにこの組成物を基板上に塗布し、乾燥後、活性光線照射を行い、現像後加熱処理するレリーフパターンの製造法。

Claim (excerpt)：

(A)イミド化率が5〜60%であるポリアミド酸、(B)ナフトキノンジアジド化合物及び(C)一般式(1)【化1】(nは0〜3の整数であり、Xは水素原子、水酸基、アミノ基又は1価の有機基であり、1つの芳香族環にあるXのうち少なくとも1つは水酸基であり、Rは単結合又は2価の脂肪族基である)で示されるフェノール性水酸基を有する化合物を含有してなるポジ型感光性ポリイミド前駆体樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/037 501 ,  G03F 7/00 502 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/037 501 ,  G03F 7/00 502 ,  H01L 21/30 502 R