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J-GLOBAL ID:200903064209434940

ポジ型感光性組成物

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001343029
Publication number (International publication number):2003149812
Application date: Nov. 08, 2001
Publication date: May. 21, 2003
Summary:
【要約】【課題】 解像力に優れ、露光から後加熱までの経時による性能変化が殆どなくプロセス許容性に優れ、且つ疎密依存性に優れたポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により、特定の芳香族スルホン酸を発生する化合物及び(B)特定の基を含有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
Claim (excerpt):
(A)活性光線又は放射線の照射により、少なくとも1つのフッ素原子又は少なくとも1つのフッ素原子を有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物及び(B)下記一般式(1-1)〜(1-5)の少なくともいずれかで表される基を含有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】【化2】一般式(1-1)〜(1-5)に於いて、R1〜R5は、同じでも異なっていてもよく、水素原子、水酸基、カルボキシル基又は置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシカルボニル基若しくはアルケニル基を表す。
IPC (3):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (16):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

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