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J-GLOBAL ID：200903064233160010

化学反応装置

Inventor： 小原 賢信 ,  野田 英之
Applicant, Patent owner： 日立ソフトウエアエンジニアリング株式会社
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004303227
Publication number (International publication number)：2006110523
Application date： Oct. 18, 2004
Publication date： Apr. 27, 2006
Summary：

【課題】 コンタミネーションや気泡の発生がなく、簡素な構造で低コストに往復送液を行うことができる化学反応デバイス及び化学反応装置を提供する。【解決手段】 回転できる基盤100の中心以外の位置に化学反応デバイス102を支持し、回転による遠心力で送液し、基盤とは独立に流路の向きを逆転させる機構を設置する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

回転基盤と、 前記回転基盤を回転駆動する基盤駆動部と、 前記回転基盤上の回転軸から外れた位置に設けられて、第1の液溜と第2の液溜と前記第1の液溜と第2の液溜とを結ぶ流路を有する化学反応デバイスを保持するデバイス保持部と、 前記デバイス保持部の向きを変える機構とを有することを特徴とする化学反応装置。

IPC (5)：

B01J 19/00 ,  G01N 33/53 ,  G01N 33/566 ,  G01N 35/00 ,  C12N 15/09

FI (5)：

B01J19/00 321 ,  G01N33/53 M ,  G01N33/566 ,  G01N35/00 D ,  C12N15/00 A

F-Term (35)：

2G058CC05 ,  2G058CD04 ,  2G058CF02 ,  2G058EA14 ,  4B024AA11 ,  4B024CA01 ,  4B024CA09 ,  4B024HA14 ,  4B063QA01 ,  4B063QQ42 ,  4B063QR32 ,  4B063QR55 ,  4B063QR66 ,  4B063QS03 ,  4B063QS34 ,  4B063QS36 ,  4B063QX02 ,  4G075AA13 ,  4G075BB04 ,  4G075BD05 ,  4G075BD08 ,  4G075BD16 ,  4G075CA11 ,  4G075CA80 ,  4G075DA02 ,  4G075DA11 ,  4G075EA02 ,  4G075EB21 ,  4G075EC06 ,  4G075ED06 ,  4G075ED08 ,  4G075EE13 ,  4G075EE15 ,  4G075EE21 ,  4G075EE31

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• DNAプローブアレー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-053099   Applicant：株式会社日立製作所
• 米国特許第6,653,625号明細書
  
• 米国特許第6,717,136号明細書