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J-GLOBAL ID:200903064247680261
混酸の濃度測定方法および濃度測定装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
青山 葆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993050574
Publication number (International publication number):1994265471
Application date: Mar. 11, 1993
Publication date: Sep. 22, 1994
Summary:
【要約】【目的】 半導体や液晶表示装置等の製造工程においてプロセス用薬剤として使用される混酸中の酸の濃度を複成分連続的に正確に同時定量することである。【構成】 光透過検出用のフローセル11中に測定対象の混酸を導入し、データ処理装置53のマイクロプロセッサ54により、A/D変換器52でディジタル信号に変換された受光素子12の混酸の透過光強度信号から各波長の光の吸光度をそれぞれ演算するとともに、演算した各波長の光の吸光度と多変量解析法により予め求めた検量線式に基づいて混酸中の酸の濃度を演算する。
Claim (excerpt):
測定対象の混酸に光を透過または反射させ、複数波長の光についてその各強度をそれぞれ検出し、その検出値に基づいて上記混酸中の酸の濃度を測定する混酸の濃度測定方法であって、酸の濃度が既知の複数の混酸のサンプルについて複数波長の光の吸光度を測定してこれら吸光度と混酸の酸の濃度との間の定数項を含む吸光度の多次多項式を用いて多変量解析法により検量線式を予め求めておき、光透過または反射検出用のセルに測定対象の上記混酸を導入し、各波長の上記光についてセル内の混酸の透過または反射光の強度値を測定し、これら強度値から各波長の上記光の吸光度をそれぞれ演算し、演算した各波長の上記光の吸光度と上記検量線式を用いて、上記混酸中の酸の濃度を演算することを特徴とする混酸の濃度測定方法。
IPC (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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特開平3-175341
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特開昭64-059018
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特開昭55-106360
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特開平2-087066
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ガス濃度測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-296723
Applicant:日新電機株式会社
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パルスフレーム分析法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-298573
Applicant:アビブアミラブ
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特開平3-209149
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特開昭57-207847
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特開昭58-211663
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特開昭62-144071
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特開昭64-043759
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