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J-GLOBAL ID：200903064254652478

高分子光導波路及びその製造方法

Inventor： 佐々木 重邦 ,  丸尾 容子 ,  玉村 敏昭 ,  安藤 慎治 ,  松浦 徹 ,  山本 二三男 ,  松井 伸介
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 中本 宏 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994071282
Publication number (International publication number)：1995092338
Application date： Mar. 17, 1994
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 コアとクラッドの熱的な特性や複屈折の問題を解決した高分子光導波路及び製造工程が簡便な高分子光導波路の製造方法を提供する。【構成】 電子線照射により屈折率を制御して所定の値に定めた高分子よりなるコアと前記コアに接し、前記コアの屈折率より低い屈折率を有するクラッドよりなる高分子光導波路。高分子に電子線照射、又は描画によりコアを作製する高分子光導波路の製造方法。高分子層と該高分子層よりも屈折率の大きな高分子層が交互に形成された、2層以上の高分子多層膜に、電子線を照射して光導波路のコアを形成する高分子光導波路の製造方法。前記各工程の前後で、導電性膜の形成、除去を行う製造方法。

Claim (excerpt)：

電子線照射により屈折率を制御して所定の値に定めた高分子よりなるコアと前記コアに接し、前記コアの屈折率より低い屈折率を有するクラッドよりなることを特徴とする高分子光導波路。

IPC (4)：

G02B 6/12 ,  C09K 3/00 ,  G02B 6/00 391 ,  C08G 73/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-235505
  
• 特開平4-235506
  
• 特開昭61-204603