フォトレジスト組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993005794
Publication number (International publication number)：1994236024
Application date： Jan. 18, 1993
Publication date： Aug. 23, 1994
Summary：

【要約】【目的】遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)を光源として用いる露光領域において、感度及び解像度等の諸性能に優れたネガ型及びポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及び光酸発生剤を含むネガ型フォトレジストであって、上記光酸発生剤がN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物、並びに、アルカリ可溶性樹脂、溶解阻止剤及び光酸発生剤を含むポジ型フォトレジストであって上記光酸発生剤がN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及び光酸発生剤を含むネガ型フォトレジスト組成物であって、上記光酸発生剤がN-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有することを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/004 503 , G03F 7/038 505 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

特開平2-015270
特開平3-273252
特開平1-293339

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