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J-GLOBAL ID:200903064290526187

膜厚測定装置および方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山口 孝雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002237727
Publication number (International publication number):2004077270
Application date: Aug. 19, 2002
Publication date: Mar. 11, 2004
Summary:
【課題】表面粗さや表面揺れなどの影響を実質的に受けることなく、たとえば製造ライン上のワークに形成された膜の厚さを正確に測定することのできる膜厚測定装置。【解決手段】ワーク(10)上に形成された膜(11)の厚さを測定する装置。膜を形成する物質は所定の発光材料を含有している。膜に所定波長の照明光を照射するための照射部(1)と、膜からの光を検出するための光検出部(2)と、外部から膜に達する不要光を遮るための遮蔽部(4)とを備え、処理部(3)では光検出部の出力に基づいて膜の厚さを測定する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
ワーク上に形成された膜の厚さを測定する装置において、 前記膜を形成する物質は所定の発光材料を含有し、 前記膜からの光を検出するための光検出部を備え、 前記光検出部の出力に基づいて前記膜の厚さを測定することを特徴とする膜厚測定装置。
IPC (1):
G01B11/06
FI (1):
G01B11/06 H
F-Term (12):
2F065AA30 ,  2F065BB30 ,  2F065CC31 ,  2F065DD14 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF61 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL30 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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