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J-GLOBAL ID：200903064315220525

ポジ型フオトレジスト組成物

Inventor： 大背戸 浩樹 ,  片岡 睦雄
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991249329
Publication number (International publication number)：1993088363
Application date： Sep. 27, 1991
Publication date： Apr. 09, 1993
Summary：

【要約】【構成】 この発明はノボラック樹脂と特定のポリヒドロキシトリフェニルメタン誘導体のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有するポジ型フォトレジスト組成物である。【効果】 新規な高コントラスト感光剤を用いることにより、少ない感光剤添加量で高コントラストかつ保存安定性のよいポジ型フォトレジスト組成物を得ることができる。

Claim (excerpt)：

ノボラック樹脂と感光剤からなるポジ型フォトレジスト組成物において、感光剤として一般式(I)で示される化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 、R2 はアルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を、R3 〜R6 は水素原子、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を、R7 、R8 は水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表わす。)

IPC (2)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027