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J-GLOBAL ID：200903064337740514

有機ハロゲン化合物含有排ガスの浄化処理方法

Inventor：
新田 昌弘

About 新田 昌弘


Applicant, Patent owner：
バブコック日立株式会社

About バブコック日立株式会社


Agent (1)： 鵜沼 辰之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994320527
Publication number (International publication number)：1996173760
Application date： Dec. 22, 1994
Publication date： Jul. 09, 1996
Summary：
【要約】【目的】 有機ハロゲン化合物、一酸化炭素、炭化水素、他を含有する排ガスを、空気と水との存在下で効率よく浄化処理する排ガス浄化処理方法を提供する。【構成】TiO2とZrO2の2成分からなる複合酸化物の担体に、PdとPtの2種の触媒活性成分を担持させて触媒を用い、200〜800°Cで排ガスを空気と水の存在下で接触させ、排ガス中の有機ハロゲン化合物、炭化水素、アルデヒド、有機酸、アルコール、有機窒素化合物、NH3及びCOを酸化・分解することにより浄化処理する、あるいは上記のPdの一部および/またはPtの一部をCo,Cu及びMnのうちの1種以上の金属酸化物に置き換えた触媒を用いて、200〜1000°Cで上記同様にして浄化処理する。
Claim (excerpt)：
有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを酸化・分解して浄化処理する方法において、チタニア(TiO2)及びジルコニア(ZrO2)の2成分からなる複合酸化物の担体に、Pd及びPtの2種の金属あるいは金属酸化物からなる触媒活性成分を担持させてなる触媒に、200〜800°Cの温度範囲で前記排ガスを空気と水の存在下で接触させ、該排ガス中の有機ハロゲン化合物、炭化水素及びCOを酸化・分解することを特徴とする有機ハロゲン化合物含有排ガスの浄化処理方法。
IPC (6)：
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 23/44 ZAB ,  B01J 23/89 ZAB ,  B01J 37/02 101 ,  B01J 32/00
FI (2)：
B01D 53/36 ZAB G ,  B01D 53/36 104 Z
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開平3-042015
  • 有機系ハロゲン化合物の分解方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-239397   Applicant：株式会社東芝
  • 特開平3-012221
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