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J-GLOBAL ID：200903064344900560
廃液処理方法及び装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井上 清子 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992151186
Publication number (International publication number)：1993317844
Application date： May. 20, 1992
Publication date： Dec. 03, 1993
Summary：
【要約】【目的】 写真処理廃液を加熱蒸発する際に発生するガス中の有害物を適切に分解処理すると共にコンンパクトにかつ簡便に効率よく経済的に提供する。【構成】 発生したアンモニアガス等のガスと空気を混合し加熱(11)した混合ガスを触媒反応工程(13)へ導き、該工程での温度と間接的に熱交換した後に上記触媒反応工程に送り込み、その熱交換後の混合ガスの温度が設定温度になるように上記熱交換前に加熱する混合ガスの温度を調整し、該調整によって上記触媒反応工程の反応温度を制御する。
Claim (excerpt)：
写真処理廃液等の廃液を加熱蒸発濃縮した際に発生するアンモニアガス等のガスと空気を混合加熱し、該混合ガスを触媒に接触反応させてガス中の有害物を分解する廃液処理において、該混合ガスを上記触媒反応工程へ導き該工程の温度と間接的に熱交換した後に該触媒反応工程に送り込み、その熱交換後の混合ガスの温度が設定温度になるように上記熱交換前に加熱する混合ガスの温度を調整し、該調整によって上記触媒反応工程の反応温度を制御する廃液処理方法。
IPC (3)：
C02F 1/04
, B01D 53/36
, G03C 5/00
