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J-GLOBAL ID：200903064363994680

蛍光体膜形成法

Inventor： 山下 正芳 ,  富田 延明 ,  中西 洋一郎
Applicant, Patent owner： ヤマハ株式会社
Agent (1)： 伊沢 敏昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997082113
Publication number (International publication number)：1998261367
Application date： Mar. 15, 1997
Publication date： Sep. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】 フィールド・エミッション・ディスプレイ等に用いる青色蛍光体膜の発光効率を向上させる。【解決手段】 石英ガラス等の耐熱性透明基板10の表面にSrGa2 S4 :Ceを含む青色蛍光体膜12を堆積した後、膜12に結晶性を改善すべくH2 S含有の減圧ガス雰囲気中でアニール処理を施す。アニール処理条件は、温度720〜860°C、保持時間30分〜5時間、昇温速度及び降温速度1〜50°C/分、ガス圧力10-4〜1Torrとすることができる。膜12としては、SrGa2 S4 :Ceの単一層からなる結晶性良好なものが得られる。膜12の上にAl等の陽極層14を形成する。

Claim (excerpt)：

所定温度の熱処理に耐えうる基板を覆って、SrGa2 S4 :Ceを含む青色蛍光体膜を堆積する工程と、前記青色蛍光体膜に結晶性を改善すべく硫化水素含有の減圧ガス雰囲気中で前記所定温度の熱処理を施す工程とを含む蛍光体膜形成法。

IPC (5)：

H01J 9/227 ,  C09K 11/08 ,  C09K 11/62 CPC ,  H01J 29/20 ,  H01J 31/12

FI (5)：

H01J 9/227 F ,  C09K 11/08 D ,  C09K 11/62 CPC ,  H01J 29/20 ,  H01J 31/12 C