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J-GLOBAL ID：200903064382092183

ウエーハの洗浄装置及びその装置を用いる洗浄方法

Inventor： 溝内 重和 ,  落合 崇
Applicant, Patent owner： 住友シチックス株式会社
Agent (1)： 森 正澄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996136905
Publication number (International publication number)：1997321016
Application date： May. 30, 1996
Publication date： Dec. 12, 1997
Summary：

【要約】【目的】微粒子及び不純物汚染の少ない洗浄を安価な設備で実現するための装置を得ること。また、ウエーハ表面の微粒子を除去し、金属不純物汚染を検出下限以下のレベルまで低減させることが可能な洗浄方法を得ること。【構成】洗浄槽にシリコンウエーハを収納し、洗浄槽内に洗浄液を充填するウエーハの洗浄装置において、洗浄槽7は、ウエーハ装着部2を有するウエーハ保持部材1と、ウエーハ装着部2を覆うウエーハ蓋部材4とを組み合わせて形成され、ウエーハ装着部2は、一枚のシリコンウエーハwが収納される側面開口の部位であり、このウエーハ装着部2を、ウエーハ蓋部材4で横方向から覆って洗浄槽7を形成する構成のウエーハの洗浄装置である。洗浄槽7にシリコンウエーハを収納し、洗浄槽内の洗浄液を切り替えて、シリコンウエーハを大気に曝すことなく洗浄する構成のウエーハの洗浄方法である。

Claim (excerpt)：

洗浄槽にシリコンウエーハを収納し、洗浄槽内に洗浄液を充填するウエーハの洗浄装置において、前記洗浄槽は、ウエーハ装着部を有するウエーハ保持部材と、前記ウエーハ装着部を覆うウエーハ蓋部材とを組み合わせて形成され、前記ウエーハ装着部は、一枚のシリコンウエーハが収納される側面開口の部位であり、このウエーハ装着部を、前記ウエーハ蓋部材で横方向から覆って洗浄槽を形成することを特徴とするウエーハの洗浄装置。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04 ,  B08B 11/02

FI (4)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 C ,  B08B 3/04 Z ,  B08B 11/02