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J-GLOBAL ID：200903064392846402

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 佐藤 健一郎 ,  上西 一也 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997115797
Publication number (International publication number)：1998307396
Application date： May. 06, 1997
Publication date： Nov. 17, 1998
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外線、特に170nm〜220nmという波長領域の光に対して十分好適であり、かつ光に対して高感度で、得られるレジストパターンプロファイルが優れ、且つ優れた基板との密着性を有し、未露光部の膜べりが軽減されたポジ型フォトレジスト組成物を提供することである。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂、及び水に不溶でアルカリ水溶液に可溶であり、塗膜状態での170〜220nmの波長の光に対する膜厚1.0μm当たりの光学濃度が0.40μm-1以下であるアルカリ可溶性樹脂を含有し、その含有量が、前記全重量に対して0.1〜20重量%である遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基を有する樹脂、及び(C)水に不溶で、アルカリ水溶液に可溶であり、塗膜状態での170〜220nmの波長の光に対する膜厚1.0μm当たりの光学濃度が0.40μm-1以下であるアルカリ可溶性樹脂を含有し、(C)のアルカリ可溶性樹脂の含有量が、上記(A)〜(C)の全重量に対して0.1〜20重量%であることを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-089917   Applicant：三菱電機株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-074718   Applicant：ジェイエスアール株式会社