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J-GLOBAL ID:200903064416175474
光導波路及びその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
西川 惠清 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000193507
Publication number (International publication number):2002014246
Application date: Jun. 27, 2000
Publication date: Jan. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】 パワー強度の強いレーザー光を照射することにより材料そのものの改質を行い、その結果、屈折率を変化させることにより複雑な三次元状のコア領域が容易に形成される光導波路を提供する。【解決手段】 有機材料からなる母相2の内部に、レーザー光4の照射により屈折率が変化されたコア領域7が連続して形成されて成る。円形の断面をもち複雑な形状を有する三次元状のコア領域7を容易に形成することができる。有機材料を母相2として軽量化を図ると共に製造コストを低減することができる。製造工程においてコア領域7を形成した後、このコア領域7を固定化するような煩雑な工程が不要となる。
Claim (excerpt):
有機材料からなる母相の内部に、レーザー光の照射により屈折率が変化されたコア領域が連続して形成されて成ることを特徴とする光導波路。
IPC (3):
G02B 6/122
, G02B 6/13
, G02B 6/12
FI (3):
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
F-Term (6):
2H047KA04
, 2H047KA12
, 2H047PA11
, 2H047PA22
, 2H047PA28
, 2H047QA05
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