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J-GLOBAL ID：200903064497645852

位相シフトマスクの検査装置

Inventor： ▲高▼岡 肇
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995164351
Publication number (International publication number)：1997015835
Application date： Jun. 29, 1995
Publication date： Jan. 17, 1997
Summary：

【要約】【目的】位相シフトマスクに複数回検査光を透過させ、位相誤差を積算することにより計測精度を向上させること。【構成】ミラーとハーフミラーを組み合わせた光学系を利用して複数回検査光をレチクルを透過させ位相シフト量の誤差を積算させることにより、位相シフト量の180°からの誤差を高精度に計測することを特徴とする位相シフトマスクの検査装置である。

Claim (excerpt)：

光源と、光源から出射した光を検査光と参照光の2つに分けるハーフミラーと、検査光の光路に挿入された位相シフトマスクに検査光を複数回透過させる光学系と、参照光の光路に挿入された光路補正部と、前記光学系と光路補正部を通った検査光と参照光を合成するハーフミラーと、合成された検査光と参照光の干渉縞を検出する検出器とを有することを特徴とする位相シフトマスクの検査装置。

IPC (3)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (3)：

G03F 1/08 S ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 502 P