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J-GLOBAL ID：200903064506374620

3次元描画方法および装置

Inventor： 安藤 健治 ,  後藤 正宏
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高橋 明夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998043362
Publication number (International publication number)：1999242753
Application date： Feb. 25, 1998
Publication date： Sep. 07, 1999
Summary：

【要約】【課題】3次元図形のぼかし処理は、ユーザ指定による位置ずれした図形を複数回描画して加算するため、容易に実現できなかった。【解決手段】フレームメモリ上へ描画する3次元図形が画素毎に保持しているZ軸方向のZ値と、画面単位などにユーザから設定される被写界深度Zfとの偏差に応じた複写画素距離に基づいて、画素毎にその描画位置と輝度を分散する。すなわち、スパン画素算出処理部から順次、画素毎にその座標と輝度受け取ると、その輝度値を1/4すると共に、偏差D1(=Z-Zf)とそれに基づく画素複写距離D2(=|tan~1(D1)|・6/π)を求める。次に、当該画素のX/Y座標にD2を加/減して、上下左右の1つの近隣画素(複写先)を順次定め、該近隣画素のフラグが0のとき、フラグ=1として、該近隣画素に1/4輝度値を書き込む。既に、フラグが1であれば、複写先の輝度値と今回の1/4輝度値を加算する。

Claim (excerpt)：

3次元の図形を2次元の画面上へ表示する際に、図形内の画素毎に奥行き情報(Z値)を含む座標データと輝度値からなる表示データを生成してフレームメモリに描画する3次元描画方法において、対象図形内の画素毎に順次、対象画素のZ値と予め画面単位などに設定されている被写界深度(Zf)との偏差に応じて当該画素の複写位置を求め、該複写位置に相当する近隣画素に当該画素の輝度値を当分割する描画処理を繰返し、対象図形の周縁部に前記偏差に応じて増減するぼかし領域を形成することを特徴とする3次元描画方法。

IPC (3)：

G06T 15/00 ,  G06T 17/00 ,  G06T 15/40

FI (3)：

G06F 15/72 450 A ,  G06F 15/62 350 A ,  G06F 15/72 420