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J-GLOBAL ID：200903064517130935
処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
,
Agent (1)：
中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992323704
Publication number (International publication number)：1994151293
Application date： Nov. 09, 1992
Publication date： May. 31, 1994
Summary：
【要約】【目的】 インターフェース部において処理を可能にし、トラブル発生時には被処理体を退避させて過剰処理を防止すると共に、処理の安定性が図れる処理装置を提供する。【構成】 塗布・現像ステーション1と露光ステーション2間を被処理体Wの受渡しを行うインターフェース部3で接続する。インターフェース部3に熱処理部25を設けると共に、トラブル発生時に熱処理部25からウエハWを退避させる退避部26を設ける。これにより、インターフェース部3において処理を行うことができ、トラブル発生時には熱処理部25からウエハWを退避させてオーバーベーク等の不具合を防止することができ、処理の安全化を図ることができる。
Claim (excerpt)：
第1および第2処理部間を被処理体の受渡しを行うインターフェース部で接続した処理装置において、上記インターフェース部に第3処理部を設けると共に、第3処理部から被処理体を退避させる退避部を設けたことを特徴とする処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, B65G 49/07
, H01L 21/68
