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J-GLOBAL ID：200903064529581606

磁気デイスク

Inventor： 小畑毅
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 内原 晋
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991233155
Publication number (International publication number)：1993073900
Application date： Sep. 12, 1991
Publication date： Mar. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 厚さ500A以下においても、きわめて高い硬度を持ち、さらに密着性、耐摩耗性、潤滑性に優れており、高密度記録技術の要求に十分耐え得る実用性の高い磁気ディスク保護膜を提供する。【構成】 磁気ディスク基体上にシリコン被膜を設け、次に該シリコン被膜の上に水素を含有する硬質非晶質炭素保護膜を設け、さらに該硬質非晶質炭素膜の表面に水素、ホウ素ならびに窒素を含有する非晶質炭素膜を設けることにより、シリコン被膜による磁気ディスク基体と保護膜との優れた密着性、硬質非晶質炭素膜による優れた耐摩耗性、そして水素、ホウ素ならびに窒素を含有する非晶質炭素膜による優れた潤滑性を兼ね備え、500A以下の厚さにおいてもきわめて均一かつ良好な磁気ディスク保護膜を形成することが可能となる。

Claim (excerpt)：

磁気ディスク基体上にシリコン被膜を設け、次に該シリコン被膜の上に水素を含有する硬質非晶質炭素保護膜を設け、さらに該硬質非晶質炭素膜の表面に水素、ホウ素ならびに窒素を含有する非晶質炭素膜を設けることを特徴とする磁気ディスク。