リチウム含有水溶液からのリチウム濃縮液の製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：八田幹雄 , 野上敦 , 奈良泰男 , 齋藤悦子 , 宇谷勝幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002308650
Publication number (International publication number)：2004142986
Application date： Oct. 23, 2002
Publication date： May. 20, 2004
Summary：

【課題】リチウムイオンの回収率が高く、固形物を含まないかん水や海水等のリチウム含有水溶液からのリチウム濃縮液の製造方法を提供する。【解決手段】(a)リチウム含有水溶液を吸着剤に導入し;(b)該吸着床に水を導入して、吸着剤に吸着されたナトリウム、カリウム、カルシウム及びマグネシウムのイオンを脱離させ;(c)さらに該吸着床に酸性溶液を導入して、吸着剤に吸着されたリチウムイオンを脱離させて、1200〜1500ppmのリチウムイオン濃度を有する溶液を得;(d)該段階(c)で得られた溶液中のリチウムイオンを第1の電気透析によって6000〜10000ppmのリチウムイオン濃度にまで上昇し;さらに(e)該段階(d)で得られた溶液中のリチウムイオンを第2の電気透析によって14000〜18000ppmのリチウムイオン濃度にまで上昇する、リチウム含有水溶液からのリチウム濃縮液の製造方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

(a)リチウムイオンが、ナトリウム、カリウム、カルシウム及びマグネシウムのイオンに比して吸着床の吸着剤により強く吸着されるように、リチウム含有水溶液を吸着剤に導入し; (b)該吸着床に水を導入して、吸着剤に吸着されたナトリウム、カリウム、カルシウム及びマグネシウムのイオンを脱離させ; (c)さらに該吸着床に酸性溶液を導入して、吸着剤により強く吸着されたリチウムイオンを脱離させて、1200〜1500ppmのリチウムイオン濃度を有する溶液を得; (d)該段階(c)で得られた1200〜1500ppmのリチウムイオン濃度を有する溶液中のリチウムイオンを第1の電気透析によって6000〜10000ppmのリチウムイオン濃度にまで上昇し;さらに (e)該段階(d)で得られた6000〜10000ppmのリチウムイオン濃度を有する溶液中のリチウムイオンを第2の電気透析によって14000〜18000ppmのリチウムイオン濃度にまで上昇する段階を有するリチウム含有水溶液からのリチウム濃縮液の製造方法。

IPC (7)：

C01D15/08 , B01D15/00 , B01D61/44 , B01D61/58 , B01J20/06 , C02F1/28 , C02F1/469

FI (8)：

C01D15/08 , B01D15/00 P , B01D61/44 500 , B01D61/44 520 , B01D61/58 , B01J20/06 C , C02F1/28 E , C02F1/46 103

F-Term (44)：

4D006GA17 , 4D006KA01 , 4D006KA52 , 4D006KA53 , 4D006KA63 , 4D006KA68 , 4D006KB12 , 4D006PA01 , 4D006PB03 , 4D006PB27 , 4D017AA01 , 4D017BA12 , 4D017CA05 , 4D017CB01 , 4D017DA01 , 4D017DB01 , 4D017DB10 , 4D024AA05 , 4D024AB15 , 4D024BA14 , 4D024BB01 , 4D024BC01 , 4D024CA01 , 4D024DA07 , 4D024DB09 , 4D024DB20 , 4D061DA04 , 4D061DB18 , 4D061DC19 , 4D061EA09 , 4D061EB01 , 4D061EB04 , 4D061FA06 , 4G066AA13B , 4G066AA26B , 4G066AC15D , 4G066BA09 , 4G066BA36 , 4G066CA45 , 4G066DA07 , 4G066FA03 , 4G066FA26 , 4G066FA28 , 4G066GA11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

リチウム回収装置および方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-361155 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所, 東京瓦斯株式会社
特開平4-293541
特開平3-008439

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