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J-GLOBAL ID：200903064554359624

基材の表面処理方法

Inventor： 伊藤 徹夫 ,  二宮 利幸 ,  安田 健二
Applicant, Patent owner： 日本合成ゴム株式会社
Agent (1)： 福沢 俊明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991315225
Publication number (International publication number)：1993230249
Application date： Nov. 05, 1991
Publication date： Sep. 07, 1993
Summary：

【要約】【目的】 基材本来の特性を実質的に損なず且つ所要の親水性を有するとともに耐久性にも優れた親水性薄膜を形成する新規な表面処理方法を提供する。【構成】 表面温度が150°C以下に保持された基材表面に、純度99.99%以上の無機酸化物からなる蒸発源またはターゲットを用いて膜厚100Å以下の無機酸化物薄膜を形成することにより、親水性並びに耐久性に優れた薄膜を形成する。

Claim (excerpt)：

表面温度が150°C以下に保持された基材表面に、純度99.99%以上の無機酸化物からなる蒸発源またはターゲットを用いて膜厚100Å以下の無機酸化物薄膜を形成することを特徴とする基材の表面処理方法。

IPC (3)：

C08J 7/06 ,  G02B 1/12 ,  C12M 3/00