Pat
J-GLOBAL ID:200903064564217119
ラジカル重合によるコポリマーの製造
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
平木 祐輔 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000568887
Publication number (International publication number):2003524670
Application date: Aug. 25, 1999
Publication date: Aug. 19, 2003
Summary:
【要約】本発明は、a) 5〜95重量%の式Iで表されるモノマーと、b) 95〜5重量%の式II(各式中、R1及びR2は水素原子又はC1-C3-アルキル、R3は水素原子又はC1-C6-アルキル、及びnは1〜3である。)で表されるモノマーと、c) 0〜40重量%の、完全に水溶性であるか、又は限られた水溶性を有するさらなるモノマーとをラジカル重合することによりコポリマーを製造する方法に関する。本発明の方法は、重合を水性媒体中で行うことを特徴とする。
Claim (excerpt):
a) 5〜95重量%の式Iで表されるモノマーと、b) 95〜5重量%の式II(各式中、R1及びR2は水素原子又はC1-C3-アルキル、R3は水素原子又はC1-C6-アルキル、及びnは1〜3である。)で表されるモノマーと、c) 0〜40重量%の、完全に水溶性であるか、又は限られた水溶性を有するさらなるモノマーと、をラジカル重合することによりコポリマーを製造する方法であって、重合を水性媒体中で行うことを特徴とする前記方法。
IPC (3):
C08F226/02
, C08F226/06
, C10L 3/00
FI (3):
C08F226/02
, C08F226/06
, C10L 3/00 Z
F-Term (22):
4J100AB07R
, 4J100AE02R
, 4J100AG02R
, 4J100AG04R
, 4J100AJ02R
, 4J100AL03R
, 4J100AL09R
, 4J100AL34R
, 4J100AL36R
, 4J100AM02R
, 4J100AM15R
, 4J100AM17R
, 4J100AM21R
, 4J100AM43R
, 4J100AN04P
, 4J100AN04Q
, 4J100AP01R
, 4J100AP07R
, 4J100BA11
, 4J100BA14
, 4J100BA56
, 4J100BA64
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