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J-GLOBAL ID:200903064564217119

ラジカル重合によるコポリマーの製造

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 平木 祐輔 (外1名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2000568887
Publication number (International publication number):2003524670
Application date: Aug. 25, 1999
Publication date: Aug. 19, 2003
Summary:
【要約】本発明は、a) 5〜95重量%の式Iで表されるモノマーと、b) 95〜5重量%の式II(各式中、R1及びR2は水素原子又はC1-C3-アルキル、R3は水素原子又はC1-C6-アルキル、及びnは1〜3である。)で表されるモノマーと、c) 0〜40重量%の、完全に水溶性であるか、又は限られた水溶性を有するさらなるモノマーとをラジカル重合することによりコポリマーを製造する方法に関する。本発明の方法は、重合を水性媒体中で行うことを特徴とする。
Claim (excerpt):
a) 5〜95重量%の式Iで表されるモノマーと、b) 95〜5重量%の式II(各式中、R1及びR2は水素原子又はC1-C3-アルキル、R3は水素原子又はC1-C6-アルキル、及びnは1〜3である。)で表されるモノマーと、c) 0〜40重量%の、完全に水溶性であるか、又は限られた水溶性を有するさらなるモノマーと、をラジカル重合することによりコポリマーを製造する方法であって、重合を水性媒体中で行うことを特徴とする前記方法。
IPC (3):
C08F226/02 ,  C08F226/06 ,  C10L 3/00
FI (3):
C08F226/02 ,  C08F226/06 ,  C10L 3/00 Z
F-Term (22):
4J100AB07R ,  4J100AE02R ,  4J100AG02R ,  4J100AG04R ,  4J100AJ02R ,  4J100AL03R ,  4J100AL09R ,  4J100AL34R ,  4J100AL36R ,  4J100AM02R ,  4J100AM15R ,  4J100AM17R ,  4J100AM21R ,  4J100AM43R ,  4J100AN04P ,  4J100AN04Q ,  4J100AP01R ,  4J100AP07R ,  4J100BA11 ,  4J100BA14 ,  4J100BA56 ,  4J100BA64

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