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J-GLOBAL ID:200903064575347391
光学装置の検査方法及び装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大森 聡
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998239290
Publication number (International publication number):1999142291
Application date: Aug. 25, 1998
Publication date: May. 28, 1999
Summary:
【要約】【課題】 被検物としての光学装置を通過した光束と、この光束の一部から生成される参照光との干渉光を検出する検査装置において、その干渉光の位相を高精度に検出する。【解決手段】 被検光学系3を通過した光束Lがプレート8に形成されたピンホール10上に点像を形成する。その点像からの計測光Lmと、その点像からの光束の内でピンホール10で回折された参照光Lrとの干渉光を観察系15で受光し、その干渉光によって形成される干渉縞を撮像素子20で撮像する。プレート8を光束Lを横切る方向、又は光束Lの光路に沿った方向に振動させることによってヘテロダイン干渉光を生成し、その干渉縞の各部の位相を高精度に検出する。
Claim (excerpt):
光学装置を通った光束の波面検査を行う検査方法であって、被検物である光学装置に光束を通すステップと、前記光学装置を通った光束を運動中の回折要素に通して、前記光学装置を通った光束の一部から回折光を発生させるステップと、を具備してなることを特徴とする光学装置の検査方法。
IPC (4):
G01M 11/00
, G01B 9/02
, G01J 9/00
, G01N 21/27
FI (4):
G01M 11/00 T
, G01B 9/02
, G01J 9/00
, G01N 21/27 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開昭57-064139
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光学系の検査装置および該検査装置を備えた投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-222677
Applicant:株式会社ニコン
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像面測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-062922
Applicant:旭光学工業株式会社
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簡易干渉計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-150775
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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移相回折干渉計
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-518932
Applicant:ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア
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収差測定方法及び収差測定装置並びにそれを備えた露光装置及びデバイス製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-326988
Applicant:株式会社ニコン
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