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J-GLOBAL ID:200903064601530787

コーターエッジの洗浄方法及び洗浄装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 萩野 平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992207063
Publication number (International publication number):1993208154
Application date: Jul. 13, 1992
Publication date: Aug. 20, 1993
Summary:
【要約】【目的】 エッジ面の破損の危険性を回避でき、且つエッジ面及びその近傍ををむらなく洗浄し得るコーターエッジの洗浄方法及び洗浄装置を提供する。【構成】 エッジ面の長手方向に沿って平行移動自在とした移動手段に、エッジ面に該面形状に対応して弾性変形して接触可能な洗浄ヘッドを設け、前記洗浄ヘッドを前記エッジ面に圧接させつつ前記移動手段を該エッジ面に沿って移動してエッジ面を洗浄する洗浄方法。又、支持体上に磁性分散液を塗布するコーター20に沿って平行に配置された移動台2と、移動台上を移動する移動部本体3と、移動部本体からコーターのエッジ面22側に張り出し可能でエッジ面に対して略鉛直方向に移動可能なアーム部7と、このアーム部の先端部に取り付けられ前記エッジ面に弾性接触する洗浄ヘッド10とからなるコーターエッジ洗浄装置。
Claim (excerpt):
可撓性支持体の幅方向に長いエッジ面に沿って磁性分散液を吐出し該支持体上に該磁性分散液を塗布するコーターエッジの洗浄方法であって、前記エッジ面の長手方向に沿って平行移動自在とした移動手段に、エッジ面に該面形状に対応して弾性変形して接触可能な洗浄ヘッドを設け、前記洗浄ヘッドを前記エッジ面に圧接させつつ前記移動手段を該エッジ面に沿って移動することにより、前記エッジ面を自動洗浄することを特徴とするコーターエッジの洗浄方法。
IPC (4):
B05C 1/02 101 ,  B05C 5/02 ,  B08B 1/00 ,  G11B 5/842

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