Pat

J-GLOBAL ID：200903064625064930

遮光膜及びその形成方法

Inventor： 真田 信一
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992244867
Publication number (International publication number)：1994094914
Application date： Sep. 14, 1992
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】薄膜で、十分な遮光度、パターン精度を有する遮光膜及びその形成方法を提供する。【構成】加熱により不可逆的に黒色とされた化合物を、黒色顔料として含有する遮光膜である。この遮光膜は、加熱により不可逆的に黒色化する化合物を含む樹脂組成物の塗布層をフォトリソグラフィー法によりパターンニングした後、加熱により前記化合物を黒色化することにより形成される。

Claim (excerpt)：

加熱により不可逆的に黒色とされた化合物を黒色顔料として含有する樹脂パターンを具備することを特徴とする遮光膜。

IPC (2)：

G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭61-006151
  
• 特開昭61-006150