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J-GLOBAL ID：200903064677790222

排ガス再利用装置及び排ガス再利用方法

Inventor： 設楽 千春
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 藤巻 正憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000348860
Publication number (International publication number)：2002151467
Application date： Nov. 15, 2000
Publication date： May. 24, 2002
Summary：

【要約】【課題】 装置の小型化が容易であり、エッチング装置毎に装着することができると共に、プラズマ反応に使用した後の排ガス全てを再利用することができ、排ガス成分を高効率で回収することができる排ガス再利用装置及び排ガス再利用方法を提供する。【解決手段】 プラズマチャンバ1にエッチングガスボンベ4、5からエッチングガスA、B及びCが夫々流量(a-a1)、(b-b1)及び(c-c1)で供給される。プラズマチャンバ1内は真空ポンプ6,7により排気され、この排ガスは分離供給部9からの希釈ガスにより希釈された後、希釈排ガスとなって乾式精製部8に供給される。乾式精製部8の精製ガス、即ち未反応のエッチングガスは分離供給部9に送られる。この分離供給部9から、精製ガスの一部、即ち[a1A+b1B+c1C](ガスA、B、Cを夫々流量a1、b1、c1で流した場合と同一組成で同一流量の混合ガスを示す)がプラズマチャンバ1にエッチングガスとして供給され、残部、即ちn[a1A+b1B+c1C]が真空ポンプ7に希釈ガスとして供給される。

Claim (excerpt)：

プラズマ反応を行うプラズマチャンバと、このプラズマチャンバにエッチングガスを供給するエッチングガス供給部と、前記プラズマチャンバ内のガスを排気する真空ポンプ部と、この真空ポンプ部の排ガスを希釈ガスにより希釈して希釈排ガスを生成する希釈排ガス生成部と、前記希釈排ガスを精製して不純物が除去された精製ガスを生成する精製部と、前記精製ガスを分配して前記プラズマチャンバ及び前記希釈ガス生成部に夫々エッチングガス及び希釈ガスとして供給する精製ガス分配供給部と、を有し、前記プラズマチャンバにおけるプラズマ反応に必要なエッチングガスが前記エッチングガス供給部及び前記精製ガス分配供給部の双方から供給されることを特徴とする排ガス再利用装置。

F-Term (11)：

5F004AA16 ,  5F004BC02 ,  5F004BC03 ,  5F004BC04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA16 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DB03 ,  5F004DB07