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J-GLOBAL ID：200903064682654108

微細シリカの製造方法

Inventor： 西峯 正進 ,  白砂 潔 ,  富沢 良夫 ,  上原 秀和 ,  上野 進
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994271722
Publication number (International publication number)：1996109014
Application date： Oct. 11, 1994
Publication date： Apr. 30, 1996
Summary：

【要約】【構成】 オルガノハロシラン又はジシランを燃焼して水蒸気を発生する可燃性ガス及び遊離酸素を含有するガスの拡散火炎中で火炎加水分解することを特徴とする微細シリカの製造方法。【効果】 本発明によれば、比表面積の大きい微細シリカ(ヒュームドシリカ)を操作上の不都合なく工業的有利に製造することができる。

Claim (excerpt)：

オルガノハロシラン又はジシランを燃焼して水蒸気を発生する可燃性ガス及び遊離酸素を含有するガスの拡散火炎中で火炎加水分解することを特徴とする微細シリカの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特公昭56-038526
  
• 特公昭58-054085
  
• 特公昭43-004652