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J-GLOBAL ID：200903064704276242

パターン形状の変形方法

Inventor： 西尾 修
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 山本 秀策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993213225
Publication number (International publication number)：1995065055
Application date： Aug. 27, 1993
Publication date： Mar. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】 フォトリソグラフィ工程における変形後のパターン形状を、煩わしい入力操作を伴うことなく迅速、かつ精度よく作製できるパターン形状の変形方法を実現する。【構成】 LSI作製プロセス中のフォトリソグラフィ工程におけるパターンのシフト量およびパターンの角部分の曲線化を表す曲率半径からなる2つのパラメータをコンピュータ1の計算部10に与える。また、計算部10には設計パターン20が与えられている。計算部10は、入力された2つのパラメータに基づき、設計パターン20より変形後のパターン形状を自動的に作製する。

Claim (excerpt)：

LSI作製プロセス中のフォトリソグラフィ工程におけるパターンのシフト量および該パターンの角部分の曲線化を表すパラメータをパターン形状演算装置に入力し、該パターン形状演算装置が入力情報により既存の設計パターン形状からフォトリソグラフィ工程後のパターン形状を算出して作製するパターン形状の変形方法。

IPC (3)：

G06F 17/50 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G06F 15/60 310 ,  H01L 21/30 502 V