Pat

J-GLOBAL ID：200903064759347351

フロン物質の連続分解分離方法および装置

Inventor： 二階堂 輝司 ,  大山 毅 ,  大竹 邦信 ,  森川 茂 ,  趙 興哲 ,  坂井 久
Applicant, Patent owner： 東京電力株式会社
Agent (1)： 松永 孝義 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992137311
Publication number (International publication number)：1993277205
Application date： May. 28, 1992
Publication date： Oct. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 反応効率を高め、連続的にフロン物質を化学的処理なしで分解分離する方法、装置を提供すること。【構成】 CFC11、12、113、114および115をUVランプ(185nm付近のスペクトルを持つ熱陰極型低圧水銀ランプ)1とその周囲にそれと同心円状に光反応塔2を設け、塔2内等の反応系全体を減圧下にCFC単独またはCFCと共に酸素ガス、空気等を反応系に導入し、その混合ガスを循環ポンプ4により循環させ、反応生成物の内、液体状のものまたは固体状のものは液体状固体状反応生成物溜7で回収し、気体状のものはフッ素樹脂状のものをろ過するためのフィルタ9、CFCと他のガスを分離するためのガス分離膜10、添加物質と生成物質を分離するガス分離膜11、さらに必要によりガス状生成物を分離するためのガス分離膜12、13、14を複数個設けて分離する。分離膜はポリイミド中空糸膜製が好ましい。

Claim (excerpt)：

ガス状のフロン物質に紫外線を照射してフロン物質を分解するフロン物質分解方法において、連続的に供給される各フロン物質毎に最も高い分解率を達成する特定波長を持つ紫外線を照射し、反応生成物と未反応フロン物質を分離膜で連続的に分離することを特徴とするフロン物質の連続分解分離方法。

IPC (2)：

A62D 3/00 ,  B01J 19/12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-267420
  
• 特開平3-021325
  
• 特開平3-221121