セラミックス回転カソードターゲットおよびその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：泉名謙治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992250543
Publication number (International publication number)：1993214525
Application date： Aug. 26, 1992
Publication date： Aug. 24, 1993
Summary：

【要約】【構成】円筒状ターゲットホルダーの外表面を荒し、その上に、後で形成するセラミックス層と前記ターゲットホルダーとの中間の熱膨張係数を有する金属または合金からなる層と、セラミックス層に近似した熱膨張係数を有する金属または合金からなる層のうち少なくとも1層をアンダーコートとして形成し、次いで、セラミックス粉末をプラズマ溶射して、スパッタすべきターゲットとなるセラミックス層を形成する。【効果】透明で優れた耐久性を有する非晶質酸化物膜を、大面積基板に低温高速成膜でき、また、使用効率の高い回転カソードターゲットが得られる。

Claim (excerpt)：

円筒状ターゲットホルダーの外表面に、スパッタすべきターゲットとなるセラミックス層を形成するセラミックス回転カソードターゲットの製造方法において、円筒状ターゲットホルダーの外表面を荒面加工した後、その外表面上に、前記セラミックス層の熱膨張係数と前記ターゲットホルダーの熱膨張係数との中間の熱膨張係数を有する金属または合金からなる層、または、前記セラミックス層の熱膨張係数に近似した熱膨張係数を有する金属または合金からなる層、のいずれか1層または少なくともこれら2層をアンダーコートとして形成し、次いで、セラミックス粉末を高温ガス中で半溶融状態にしつつこのガスにより前記アンダーコート上に輸送して付着させ、前記セラミックス層を形成することを特徴とするセラミックス回転カソードターゲットの製造方法。

IPC (2)：

C23C 14/34 , C23C 4/04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

特開昭51-056788
特開昭60-181270
特公昭64-005112

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Cited by examiner (16)

特開昭51-056788
特開昭51-056788
特開昭60-181270

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