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J-GLOBAL ID：200903064761197243

フェイスマスク

Inventor： 森田 直子
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003405538
Publication number (International publication number)：2005160833
Application date： Dec. 04, 2003
Publication date： Jun. 23, 2005
Summary：

【課題】顔への密着性を高めることで保湿作用や装着中の作業性を高めることが可能となるフェイスマスクを提供する。 【解決手段】形状記憶樹脂を成形したフィルムを含んでなる、フェイスマスク。好ましくは、形状記憶樹脂のガラス転移温度が、25〜45°Cの範囲内にある、上記フェイスマスク。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

形状記憶樹脂を成形したフィルムを含んでなる、フェイスマスク。

IPC (1)：

A45D44/22

FI (1)：

A45D44/22 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• フェイスマスクシート
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-131791   Applicant：有限会社三栄プレス